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技術(shù)文章/ Technical Articles

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  • 2017

    11-28

    日本水質(zhì)測(cè)試包的使用方法:①拔出管子頭部的線。②使孔朝上,用手牢牢捏住管子下半部,排出上部空氣。③保持圖2的捏住管子的狀態(tài),將洞插入杯,松開手指,吸入被測(cè)水(檢測(cè)的水是管的一半)④輕輕震搖5-6次,在的時(shí)間吸入的被測(cè)水的變色與標(biāo)準(zhǔn)色卡進(jìn)行比較,查找相同或相似顏色,該處所示的數(shù)值即為所測(cè)水質(zhì)的濃度值。日本水質(zhì)測(cè)試包的應(yīng)用范圍:工程管理—原物料品管,殘留量檢查,一般用水/循環(huán)用水/鍋爐用水等管理。排水管理—zui終放流水確認(rèn),污水處理設(shè)施運(yùn)轉(zhuǎn)管理,設(shè)備驗(yàn)收,異常處理,異常早期發(fā)現(xiàn)...

  • 2017

    10-28

    酸性蝕刻自動(dòng)分析,也叫氯化銅酸性蝕刻系統(tǒng),通常使用于單面板蝕刻、多層板的內(nèi)層蝕刻或外層蝕刻上。因這些制程都用干膜或液態(tài)感光油墨作為蝕刻阻劑,而這幾種感光材料相對(duì)而言均為耐酸不耐堿性的特性,故選用酸性蝕刻。酸性蝕刻自動(dòng)分析系統(tǒng)類型簡(jiǎn)介1.三氯化鐵蝕刻液﹕其再生困難,污染嚴(yán)重,廢液難處理等而正在被淘汰(Fe3+50%)。2.硫酸—雙氧水蝕刻液﹕由于蝕刻速度較低,其一般用于圖形電鍍、內(nèi)外層壓膜前處理(適于薄銅)。3.氯酸鹽蝕刻液﹕具有蝕刻速度穩(wěn)定,溶銅量大,蝕刻液易再生和回收,能減...

  • 2017

    10-25

    本產(chǎn)品由深圳市瑞思遠(yuǎn)科技有限公司代理進(jìn)口廠家,專業(yè)用于電鍍鎳/銅或化學(xué)鎳/銅分析監(jiān)測(cè)系統(tǒng)廣泛用于印制電路板成形處理及電鍍行業(yè)電鍍鎳/銅鍍膜工藝設(shè)計(jì)的分析監(jiān)測(cè)。本產(chǎn)品可以在要求下馬上測(cè)定出鎳或銅的濃度值。無(wú)需人工滴定化學(xué)方法測(cè)試,省去了因人為肉眼觀測(cè)顏色有誤而帶來(lái)的分析誤差。是化學(xué)廠商,電鍍工廠,科研機(jī)構(gòu),廢水處理和學(xué)校的*。歡迎各大廠商仔細(xì)閱讀下文,咨詢問價(jià)。標(biāo)價(jià)不是zui終成交價(jià)格。測(cè)定原理采用吸光光度法測(cè)定原理,光線透過光學(xué)受光側(cè)的回饋吸收比例,再經(jīng)信號(hào)放大器計(jì)算轉(zhuǎn)換為鎳...

  • 2017

    10-20

    覆銅板在化學(xué)沉銅時(shí)要進(jìn)行前處理,微蝕作為前處理的重要環(huán)節(jié)有著積極的作用。微蝕,又可稱為表面粗化,它一方面能夠去除銅箔表面的氧化層,一方面能利用微蝕刻溶液從銅基體表面上蝕刻掉1um~2um的銅,有助于提高銅箔表面和化學(xué)銅之間的結(jié)合力。然而粗化銅箔的深度要適當(dāng),粗化過量會(huì)導(dǎo)致銅和藥水的浪費(fèi),嚴(yán)重時(shí)甚至?xí)斐苫w裸露,粗化不足則會(huì)降低基銅表面與化學(xué)鍍銅的結(jié)合力。為了得到良好的粗化效果就需要確定合適的粗化速率。●因此本公司主要對(duì)影響沉銅效果的微蝕工序進(jìn)行了研究,研發(fā)了測(cè)試銅含量的自動(dòng)...

  • 2017

    9-18

    化學(xué)鍍鎳技術(shù)(無(wú)電解鎳技術(shù))是當(dāng)今世界主要工業(yè)國(guó)家大力提倡和的一種新型金屬表面處理技術(shù),被廣泛應(yīng)用于各類五金零件、機(jī)械配件、電子連接零件、模具及航天通訊零件等,均可上鍍于鋼、鐵、銅、鋁及合金等金屬,化學(xué)鍍鎳與傳統(tǒng)電鍍對(duì)比有著諸多的優(yōu)點(diǎn):1.化學(xué)鍍鎳整個(gè)工藝流程有很好的環(huán)保性,它能確保整個(gè)生產(chǎn)環(huán)節(jié)不使用不產(chǎn)生對(duì)人體和環(huán)境有害的及歐盟ROHS指令規(guī)定的鉛Pb,汞Hg,鎘Cd,六價(jià)格鉻Cr,多PBB,多醚PBOE六種有害物質(zhì)。2.鍍層厚度非常均勻,化學(xué)鍍液的分散力接近100%,無(wú)明...

  • 2017

    9-15

    觸摸屏(TP)技術(shù)分為電阻式、表面電容式、投射電容式、表面聲波式和紅外線式,其中,電容式觸摸屏廣泛應(yīng)用于移動(dòng)設(shè)備和消費(fèi)電子產(chǎn)品。觸摸屏技術(shù)方便了人們對(duì)計(jì)算機(jī)的操作使用,是一種極有發(fā)展前途的交互式輸入技術(shù),因而受到各國(guó)的普遍重視,并投入大量的人力、物力對(duì)其進(jìn)行研發(fā),新型觸摸屏不斷涌現(xiàn)。摻錫氧化銦(IndiumTinOxide,簡(jiǎn)稱ITO)薄膜是一種半導(dǎo)體材料,具有優(yōu)異的光電特性和導(dǎo)電性,在觸摸屏技術(shù)方面得到了廣泛的應(yīng)用。在電容式觸摸屏玻璃基板表面進(jìn)行ITO濺鍍后,使其成為雙面I...

  • 2017

    9-14

    氨基磺酸鎳(Nickelaminosulfonate),別名磺酰胺酸鎳,化學(xué)式Ni(NH2SO3)2,一般為四水合物的形式。性質(zhì):綠色易潮解結(jié)晶,易溶于水。加熱至高溫時(shí)失去結(jié)晶水并分解。制備:氨基磺酸與氫氧化鎳進(jìn)行反應(yīng)生成氨基磺酸鎳,再經(jīng)濃縮、結(jié)晶、離心分離,制得成品。用途:氨基磺酸鎳主要用于精密電鍍,它的優(yōu)點(diǎn)是鍍層的內(nèi)應(yīng)力低,沉積速度快。氨基磺酸鎳配方:氨基磺酸鎳300-450g/l氯化鎳:2-15g/l硼酸:30-45g/lPH值:3.5-4.5溫度:40-60度陰極電流...

  • 2017

    8-28

    一、離子交換柱操作及分析試驗(yàn)方法的原因排除當(dāng)供水緊張而備用設(shè)備較少時(shí),運(yùn)行人員因設(shè)備發(fā)生故障易產(chǎn)生緊張急躁的情緒。急躁情緒無(wú)助于問題的判斷和解決,我廠曾發(fā)生過一件事例:即多臺(tái)運(yùn)行陽(yáng)離子交換器在一段時(shí)間內(nèi)周期制水量大幅度下降,出水水質(zhì)時(shí)好時(shí)壞,檢修人員打開設(shè)備檢查后,未能發(fā)現(xiàn)其內(nèi)部裝置存在缺陷,化驗(yàn)人員通過生水和樹脂的分析,確定了水質(zhì)和樹脂性能的情況變化不大,因原因不明,故障判定的條件不充分,陽(yáng)離子交換器的故障不能及時(shí)排除,生產(chǎn)一度陷入被動(dòng)的局面。后來(lái)技術(shù)人員發(fā)現(xiàn),運(yùn)行分析人員...

  • 2017

    7-24

    酸性蝕刻自動(dòng)分析工藝是用離子膜將電解槽的陽(yáng)極區(qū)和陰極區(qū)分隔成兩個(gè)獨(dú)立的區(qū)域。陽(yáng)極區(qū)將降銅后的廢蝕刻液中的一價(jià)銅離子通過電化學(xué)反應(yīng)生成二價(jià)銅離子,使廢蝕刻液獲得再生;陰極區(qū)通過離子隔膜有選擇性的使溶液中的離子定向遷移,讓溶液中的銅離子得到電子還原成零價(jià)銅。1、酸性蝕刻自動(dòng)分析采用"離子膜電解銅"工藝:該工藝是用離子膜將電解槽的陽(yáng)極區(qū)和陰極區(qū)分隔成兩個(gè)獨(dú)立的區(qū)域。陽(yáng)極區(qū)為廢蝕刻液再生區(qū),它將降銅后的廢蝕刻液中的一價(jià)銅離子通過電化學(xué)反應(yīng)生成二價(jià)銅離子,使廢蝕刻液獲得再生;陰極區(qū)為銅...

  • 2017

    6-27

    (1)化學(xué)鍍鎳自動(dòng)分析沉積速度低a鍍液pH值過低:測(cè)pH值調(diào)整,并控制pH在下限值。雖然pH值較高能提高沉速,但會(huì)影響鍍液穩(wěn)定性。b鍍液溫度過低:要求溫度達(dá)到規(guī)范時(shí)下槽進(jìn)行施鍍。新開缸*批工件下槽時(shí),溫度應(yīng)達(dá)到上限,反應(yīng)開始后,正常施鍍時(shí),溫度在下限為好。c溶液主成分濃度低:分析調(diào)整,如還原劑不足時(shí),添加還原補(bǔ)充液;鎳離子濃度偏低時(shí),添加鎳鹽補(bǔ)充液。對(duì)于上規(guī)模的化學(xué)鍍鎳,設(shè)自動(dòng)分析、補(bǔ)給裝置是必要的,可以延長(zhǎng)連續(xù)工作時(shí)間(由30h延至56h)和鎳循環(huán)周期(由6周延至11周)。...

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